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紅外線燈加熱裝置在鐵電薄膜的晶體退火上的運(yùn)用
MILA-5000系列可以進(jìn)行高速加熱/冷卻和清潔加熱，這是紅外金像爐的特點(diǎn)。它可以在自由氣氛中加熱，并且?guī)в屑蓽囟瓤刂破骱妥兞康木o湊和廉價(jià)大氣室. 紅外線燈加熱裝置.
可通過USB連接在個(gè)人電腦上進(jìn)行加熱操作, 數(shù)據(jù)易于管理。
鐵電薄膜的晶體退火
離子注入后的擴(kuò)散退火、氧化膜形成退火
Si、復(fù)合晶片燒結(jié)、合金化處理
玻璃基板均溫儀
熱循環(huán)、熱沖擊、熱疲勞試驗(yàn)
升溫脫附試驗(yàn)用加熱爐
催化效果試驗(yàn)
選擇任何氣氛，如真空、氣體、氣流、氣氛
精確的溫度控制
桌面和緊湊的設(shè)計(jì)
您可以輕松設(shè)置溫度程序并從計(jì)算機(jī)輸入外部信號。
可以在個(gè)人電腦上顯示加熱過程中的溫度數(shù)據(jù)。
| 模型 | MILA-5000-PF （均熱型） | MILA-5000-PN （高溫型） | MILA-5000UHV （高溫/高真空型） |
|---|---|---|---|
| 溫度范圍 | 室溫～800℃ | 室溫～1200℃ | |
| 樣品尺寸 | 方形 20mm x 厚度 2mm | ||
| 加熱氣氛 | 在空氣中、真空中、惰性氣體中 | 在空氣中，在高真空中，在惰性氣體中 | |
| 極限真空度 | 6.5Pa（RP *1使用，常溫空載） | 10 -4 Pa（TMP *1使用，常溫空載） | |
* 1 真空排氣裝置是一個(gè)選項(xiàng)
* 2 加熱溫度因被加熱物體的紅外線反射/吸收、熱容量和材料而異。
